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Lapping&Polishing

Lapping

일반적인 Lapping의 주 목적은 평면도와 평행도를 맞추고 교합부품의 정확한 맞물림을 얻기 위하여 가공하는 작업으로 가공물의 표면과 랩정반의 사이에 랩재나 공작액을 가하고 가공물과 랩에 상대운동을 시키면 랩재의 작용으로 공작물 표면에서 극히 미량을 깎아내어 치수가 정확한 평활한 다듬질면을 얻는 공작법입니다.

Polishing

일반적인 폴리싱의 주 목적은 평면도와 평행도를 유지하면서 표면조도를 개선하고 Lapping 후 스크래치나 전 공정의 스크래치를 없애기 위정 공정으로 공작물의 표면과 랩과의 사이에 랩재나 공작액을 가하고 Lapping작업과 유사하게 공작물과 랩에 상대운동을 시키면 랩재의 작용으로 공작물 표면의 조도를 일정하게 하여 거울과 같은 면을 얻는 공작법입니다.

Lapping과 Polishing의 차이

일반적인 Lapping과 Polishing을 위에서 설명한 것과 같이 다르게 구분을 한다는 것은 어려운 일입니다. 다만 간단하게 Lapping은 공작물의 치수와 정도를 맞추는 작업이고 Polishing은 공작물을 Lapping한 후의 단계로서 공작물의 표면을 연마하는 개념보다는 거울면이 되도록 광을 내는 작업입니다.

소재와 제품에 따른 랩재와 랩을 선정하는데 많은 기술과 노하우가 필요합니다.

  • 최고의 평탄도 보장

    Φ100 이하 1um 이내, 최대 Φ300 기준 3um 제작 가능합니다.

  • 다양한 소재

    글라스 류 – Sapphire, Quartz, Bk-7, BORO33 기타 대부분의 Glass 제품

    세라믹 류 – Al2O3, SiC(CVD-SiC), ZrO2, Si, Ti, Si3N4외 다양한 세라믹 제품

    금속 류 – 알루미늄, 스테인레스스틸, 텅스텐, 구리, 초경 등 경질, 연질 모두 가능합니다.

  • 최상의 표면 조도

    어떠한 제품이라도 국내 최고 수준의 품질을 보장해 드립니다.

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